Grande gamme d’outils e-beam, pour les masques, la lithographie écriture directe, aussi bien pour les gros volumes de production que pour la recherche avancée et le développement.
JBX-8100FS - Spot beam
Débit élevé, faible encombrement, économique en énergie électrique.
JBX-9500FS - Spot beam
Utilisé pour la recherche, le développement et à la production dans différents domaines, tels que la nanoimpression, les composants photoniques et les dispositifs de communication.
JBX-3200MV - Variable shaped beam
Utilisé pour la fabrication de masques de nodes de 28 nm à 22/20 nm.
JBX-3050MV - Variable shaped beam
Utilisé pour la fabrication de masques de nodes de 45 nm à 32 nm.