IDES propose une gamme de produits liés à la microscopie électronique à résolution temporelle

La société IDES, acquise par JEOL en 2020 est un leader et un pionnier dans le domaine des MET ultra-rapides et dynamiques (UTEM / DTEM), spécialisée dans les lasers pulsés et les technologies de déviation électrostatique de faisceaux à grande vitesse. Les produits IDES ajoutent une résolution temporelle à la résolution spatiale exceptionnelle du MET, permettant de nouvelles applications et l’exploration de la dynamique des échantillons sur une gamme d’échelles de temps très rapides.

Télécharger les notes d’application IDES

note IDES : amélioration du rapport signal/bruit

Amélioration du rapport signal/bruit en mode STEM grâce à la méthode de comptage des électrons
This technique enables the display of sharper and less noisy images, particularly during high-speed scanning, by eliminating a major source of noise as well as afterglow effects generated in the detector.

EDS mapping using a mask for high-dead-time (heavy-element) regions

Acquisition de cartographies EDS en modulant la dose sur les éléments lourds
Si un échantillon analysé en EDS contient des régions riches en éléments lourds, ces régions génèrent de nombreux rayons X. Cela augmente le temps mort, car les rayons X peuvent s’accumuler plus rapidement que le détecteur ne peut les séparer. Pour outrepasser ce phénomène, nous proposons une solution de modulation de dose sur ces régions spécifiques avec EDM Synchrony.

Application de True Area Scan (TAS) à l’acquisition EDS

Application de True Area Scan (TAS) à l’acquisition EDS
TAS uses a fast beam blanker to shut off the electron beam during scan flyback, during which no data are collected. As a result, it becomes possible to acquire stable data while minimizing the risk of specimen damage during analysis.

couverture note IDES dose painting

Synchrony : Dose Painting – Le Dose Painting crée des motifs d’exposition précis en synchronisant un blanker électrostatique avec le scan en mode STEM
Dose Painting creates precise exposure patterns by synchronizing an electrostatic blanker to a STEM scan. Here, we demonstrate this capability by exposing Katsushika Hokusai’s ukiyo-e, “The Great Wave off Kanagawa,” onto a grating replica sample using a 200 keV electron beam in a JEM-ARM200F.