Système d’écriture directe par faisceau d’électrons haute précision et haut débit
optimisé pour un fonctionnement fiable, reproductible et compatible avec les exigences industrielles
- Optique électronique JEOL éprouvée en environnement industriel, garantissant une stabilité à long terme du faisceau, essentielle pour la tenue des spécifications CD et overlay en production mais également essentielle pour les expériences longue durée, les expositions critiques et la reproductibilité des résultats
- Prise en charge de wafers jusqu’à 300 mm, assurant la compatibilité avec les standards FAB et la transposition des développements R&D vers des environnements pré‑production
- Interface FOUP disponible en option, permettant l’intégration dans des flux automatisés et la réduction des contaminations et des interventions manuelles
- Architecture extensible vers des équipements de procédé (enrobage résine, développement), idéale pour la mise au point et l’optimisation de chaînes de procédé complètes
- Faible consommation énergétique, contribuant à la maîtrise des coûts d’exploitation (OPEX) en fonctionnement continu
- Interface utilisateur et ergonomie optimisées, permettant une opération robuste et standardisée, indépendante du niveau d’expertise opérateur
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