• Optique électronique JEOL éprouvée en environnement industriel, garantissant une stabilité à long terme du faisceau, essentielle pour la tenue des spécifications CD et overlay en production mais également essentielle pour les expériences longue durée, les expositions critiques et la reproductibilité des résultats
• Prise en charge de wafers jusqu’à 300 mm, assurant la compatibilité avec les standards FAB et la transposition des développements R&D vers des environnements pré‑production
• Interface FOUP disponible en option, permettant l’intégration dans des flux automatisés et la réduction des contaminations et des interventions manuelles
• Architecture extensible vers des équipements de procédé (enrobage résine, développement), idéale pour la mise au point et l’optimisation de chaînes de procédé complètes
• Faible consommation énergétique, contribuant à la maîtrise des coûts d’exploitation (OPEX) en fonctionnement continu
• Interface utilisateur et ergonomie optimisées, permettant une opération robuste et standardisée, indépendante du niveau d’expertise opérateur

The JBX-3050MV series is an electron beam lithography system for mask/reticle fabrication that meets the design rule of 45 to 32 nm. This system features pattern writing with high speed, high accuracy and high reliability, achieved by high-end technology.

Les caractéristiques de ce produit peuvent changer sans notification.